funzione di base
Per soddisfare i requisiti di incisione delle celle solari a film sottile su superfici rigide del substrato di vetro, quattro dispositivi sono utilizzati per corrispondere alle esigenze di incisione di diversi strati funzionali di diverse celle a film sottile.P1 utilizza l'infrarosso del nanosecondo per incidere il TCO, P2 utilizza l'ultravioletto del picosecondo o la luce verde per incidere lo strato funzionale, P3 utilizza l'ultravioletto del picosecondo o la luce verde per incidere l'elettrodo posteriore e P4 utilizza l'infrarosso del nanosecondo ad alta potenza per la pulizia del bordo.
Nota speciale: nello sviluppo della linea pilota di substrato flessibile Yuanlu Optoelectronics, non esitate a contattarci telefonicamente per una consulenza dettagliata!
Elevata capacità produttivaPuò essere dotato di lavorazione a fascio multiplo (può essere dotato di un unico canale), con una singola capacità produttiva fino a100MW;
Alta precisione: Adottando alta precisioneposizionamento CCD, precisione di posizionamento ± 15um;
Elevata affidabilitàAdottando una struttura unica, l'attrezzatura ha alta stabilità;
Forte adattabilitàOgni dispositivo può essere utilizzato sia offline (con una stazione di collegamento aggiunta prima e dopo) che online per soddisfare le esigenze dei diversi clienti;
parametro di prestazione
parametro |
P1Macchina per incisione laser a infrarossi |
P2Macchina per incisione laser a picosecondo |
P3Macchina per incisione laser a picosecondo |
P4Macchina per incisione laser a infrarossi |
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lunghezza d'onda |
1064/532/355nm |
355/532 nm |
355/532nm |
1064nm |
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potenza |
MOPA 30W |
15-60W |
15-60W |
MOPA 100W |
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Numero di teste di trasformazione |
Testa singola/6 teste/12 teste |
Testa singola/6 teste/12 teste |
Testa singola/6 teste/12 teste |
Testa singola/Doppia testa |
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Dimensione cella |
300*400/500*500/600*600/600*900/600*1200mm |
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Precisione di posizionamento del motore |
±5um |
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Velocità massima del motore |
1m/s |
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Larghezza minima della linea di incisione |
30um |
30um |
30um |
1-20mm |
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Tolleranza minima |
±5um |
±5um |
±5um |
±100um |
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Spaziatura minima tra linee |
30um |
30um |
30um |
/ |
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Zona di effetto termico |
5um |
5um |
5um |
50um |
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Precisione di posizionamento CCD |
±10um |
±10um |
±10um |
±10um |
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Rettitudine |
±20μm |
±20μm |
±20μm |
±20μm |
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Tasso di rimozione della polvere |
≥99% |
≥99% |
≥99% |
≥99% |
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Velocità del nastro trasportatore |
20m/min (velocità regolabile, può influenzare il ritmo) |
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Altezza dei materiali in entrata e in uscita |
900±20mm |